台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台:最快加速60倍
在GTC 2024大会上,NVIDIA宣布与台积电和新思科技合作,在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度,并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂,而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二者已经将 NVIDIA cuLitho加速计算光刻光平台集成到其软件、制造工艺和系统中。
在现代芯片制造过程中,计算光刻是至关重要的一步。它是半导体制造中最苛刻的工作负载之一,需要大规模的数据中心。随着硅小型化演进过程的不断推进,计算需求也随之增加。如果使用CPU来计算,每年需要在计算光刻上消耗数百亿个小时。一个典型的芯片掩模就需要3000万小时或更长时间的CPU计算时间。
借助加速计算技术,350个NVIDIA H100 GPU现在可以取代40,000 CPU 系统,在缩短生产时间的同时降低成本、空间和功耗。NVIDIA的计算光刻平台可以将半导体制造最密集的计算工作负载加速40-60倍。此外,NVIDIA还推出了新的生成式AI算法,进一步增强cuLitho的效率。
黄仁勋表示:“计算光刻是芯片制造的基石。我们与台积电和新思科技合作在cuLitho上工作,应用加速计算和生成式人工智能,为半导体扩展开辟了新的领域。”